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英飞凌科技请求包含高K栅极电介质多层层叠结构的半导体器材和用来制作该器材专利揭露相关半导体制作办法
- 作者:纯净水设备
- 发布时间:2025-01-11
金融界2024年12月5日音讯,国家知识产权局信息数据显现,英飞凌科技股份有限公司请求一项名为“包含高K栅极电介质多层层叠结构的半导体器材和用来制作该器材的办法”的专利,揭露号CN 119069527 A,请求日期为2024年5月。
专利摘要显现,揭露了包含高K栅极电介质多层层叠结构的半导体器材和用来制作该器材的办法。描绘了一种包含SiC主体的半导体器材,其具有栅极结构,栅极结构包含栅极电介质,栅极电介质具有特定的多层层叠结构,多层层叠结构包含具有4或更高的介电常数的榜首电介质资料和第二电介质资料的替换的层。进一步描绘了用来制作如之前提及的这样的包含SiC主体的半导体器材的办法。
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